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半导体光刻中的紫外线控制:ORC照度计保障芯片良品率

更新时间:2026-05-29      浏览次数:13

半导体光刻中的紫外线控制:ORC照度计保障芯片良品率


半导体制造中的光刻工艺对紫外光强控制精度要求高,紫外线强度的微小波动都可能导致芯片图案尺寸偏移,直接影响产品良品率。 

日本ORC照度计在半导体和液晶面板制造领域广泛应用,用于控制曝光过程中的紫外线强度,保证曝光过程的稳定性和一致性。

ORC提供UV-SN25/35/42和UV-SD25/35/42系列受光器,分别满足电路基板制造和半导体、液晶面板制造的波长选择和信号输出需求。

这些探头根据UV光的波段特点进行选型,UV-25测量主波长250-260nm,UV-35测量340-370nm,UV-42测量380-440nm。

ORC照度计±1.5%以内的对准精度和重复精度,满足了半导体行业对工艺一致性的严苛要求。

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